이용요금
※ 유의사항: 신청 승인 후 당일 예약 취소 시 기본료 부과
※ 당일 예약시 기기사용료 1.5배 부과
※ 시간외 사용시 1.5배 부과
엑셀다운로드| 기기 | 구분 | 항목 | 단위 | 외부 | 교내 | 기타 | 비고 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
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광학현미경 Optical microscope |
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구면수차보정형 주사투과전자현미경 Cs corrected Scanning Transmission Electron Microscope(Cs-STEM) |
분석의뢰 |
기본분석 | 시간 | 200,000 | 150,000 |
기본 그리드 제작 비용 (nano powder 분산용) polymer, film 등의 TEM Grid 제작은 Cryo-UM을 사용하여야 함 |
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| 기본분석 + STEM/EDS | 시간 | 250,000 | 200,000 | ||||
| Grid 제작 | 개 | 16,000 | 9,000 | ||||
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동시열분석기 Simultaneous Thermal Analyzer (STA) |
분석의뢰 |
일반 분석 | 시간 | 30,000 | 15,000 |
일반 분석 : ~1000℃ 구간 고온 분석 : ~1500℃ 구간 |
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| 고온 분석 | 시간 | 40,000 | 25,000 | ||||
| 샘플팬 사용 | 시료 | 10,000 | 10,000 | ||||
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두께측정기 Thickness measuring system |
분석의뢰 |
측정 | 시간 | 25,000 | 10,000 | ||
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직접사용 |
측정 | 시간 | 6,000 | ||||
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디지탈신호분석기 Digital Oscilloscope |
분석의뢰 |
16GHz 신호분석 | 시간-직접 | 28,000 | |||
| 1GHz 신호분석 | 시간-직접 | 3,000 | |||||
| 신호발생기 | 시간 | 2,000 | |||||
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직접사용 |
16GHz 신호분석 | 시간 | 17,000 | ||||
| 1GHz 신호분석 | 시간 | 2,000 | |||||
| 신호발생기 | 시간 | 2,000 | |||||
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디지털현미경 3Digital Microscope |
분석의뢰 |
일반관찰 | 시간 | 18,000 | 8,000 | ||
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직접사용 |
일반관찰 | 시간 | 5,000 | ||||
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레이디얼드릴링머신 Radial drilling machine |
분석의뢰 |
- | 시간 | 16,000 | 8,000 | ||
|
직접사용 |
- | 시간 | 4,000 | ||||
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마이크로라만분광기(신규) Raman |
분석의뢰 |
측정 | 시간 | 50,000 | 24,000 | ||
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마이크로라만분광기(직접사용) Raman |
직접사용 |
측정 | 시간 | 15,000 | |||
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마이크로웨이브 시료전처리 장비 Microwave Digestion System |
분석의뢰 |
산분해 | 시료 | 45,000 | 30,000 | ||
|
마이크로웨이브 시료전처리 장비(신규) Microwave Digestion System |
분석의뢰 |
산분해 | 시료 | 45,000 | 30,000 | ||
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만능재료시험기(인장시험기) Universal testing machine |
분석의뢰 |
인장시험 | 시료 | 25,000 | 12,000 | ||
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직접사용 |
인장시험 | 시료 | 8,000 | ||||
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백금 코팅기 Pt Coater |
분석의뢰 |
Coating | 회 | 18,000 | 16,000 | ||
|
직접사용 |
Coating | 회 | 10,000 | ||||
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보통선반 General lathe |
분석의뢰 |
- | 시간 | 24,000 | 12,000 | ||
|
직접사용 |
- | 시간 | 6,000 | ||||
|
보통선반1 General lathe-1 |
분석의뢰 |
- | 시간 | 24,000 | 12,000 | ||
|
직접사용 |
- | 시간 | 6,000 | ||||
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보통선반2 General lathe-2 |
분석의뢰 |
- | 시간 | 24,000 | 12,000 | ||
|
직접사용 |
- | 시간 | 6,000 | ||||
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보통선반3 General lathe-3 |
분석의뢰 |
- | 시간 | 24,000 | 12,000 | ||
|
직접사용 |
- | 시간 | 6,000 | ||||
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보통선반4 General lathe-4 |
분석의뢰 |
- | 시간 | 24,000 | 12,000 | ||
|
직접사용 |
- | 시간 | 6,000 | ||||
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보통선반5 General lathe-5 |
분석의뢰 |
- | 시간 | 24,000 | 12,000 | ||
|
직접사용 |
- | 시간 | 6,000 | ||||
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보통선반6 General lathe-6 |
분석의뢰 |
- | 시간 | 24,000 | 12,000 | ||
|
직접사용 |
- | 시간 | 6,000 | ||||
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비파괴검사기 CT X-ray |
분석의뢰 |
일반관찰 | 시간 | 57,000 | 42,000 | ||
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비표면적 기공 분석기 BET |
분석의뢰 |
흡착 | 시료 | 44,000 | 29,000 | 흡탈착 : Pore size, Pore volume, BET 확인 가능 | |
| 흡탈착 (pore size, volume) | 시료 | 53,000 | 38,000 | ||||
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직접사용 |
흡착 | 시료 | 21,000 | ||||
| 흡탈착 (pore size, volume) | 시료 | 34,000 | |||||
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수동평면연삭기 Surface Grinding |
분석의뢰 |
- | 시간 | 26,000 | 13,000 | ||
|
직접사용 |
- | 시간 | 7,000 | ||||
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수직밀링머신-남선2021 milling machine vertical |
분석의뢰 |
- | 시간 | 24,000 | 12,000 | ||
|
직접사용 |
- | 시간 | 6,000 | ||||
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수직밀링머신-남선2022 milling machine vertical |
분석의뢰 |
공작물 가공 | 시간 | 24,000 | 12,000 | ||
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직접사용 |
공작물 가공 | 시간 | 6,000 | ||||
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수직밀링머신-스토닉2015 Vertical milling machine |
분석의뢰 |
- | 시간 | 24,000 | 12,000 | ||
|
직접사용 |
- | 시간 | 6,000 | ||||
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수직밀링머신-스토닉2018 Vertical Milling m/c |
분석의뢰 |
- | 시간 | 24,000 | |||
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직접사용 |
- | 시간 | 12,000 | ||||
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수직밀링머신-한라1981 Vertical milling m/c |
분석의뢰 |
- | 시간 | 24,000 | 12,000 | ||
|
직접사용 |
- | 시간 | 6,000 | ||||
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시차주사열량분석기 DSC |
분석의뢰 |
일반분석 | 시간 | 42,000 | 27,000 | Tzero Pan + Lid | |
| 샘플팬 사용 | 시료 | 10,000 | 10,000 | ||||
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시차주사열량분석기(DSC2500) DSC |
분석의뢰 |
일반분석 | 시간 | 42,000 | 27,000 | ||
| 샘플팬 사용 | 시료 | 10,000 | 10,000 | ||||
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열기계분석기(TMA450EM) TMA |
분석의뢰 |
일반분석 | 시간 | 35,000 | 20,000 | ||
| 추가분석(필름) | 시간 | 23,000 | 8,000 | ||||
|
직접사용 |
일반분석 | 시간 | 16,000 | ||||
| 추가분석(필름) | 시간 | 7,000 | |||||
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열기계분석기TMA TMA |
분석의뢰 |
일반분석 | 시간 | 35,000 | 20,000 | ||
| 추가분석(필름) | 시간 | 23,000 | 8,000 | ||||
| 추가분석(침투) | 시간 | 22,000 | 7,000 | ||||
|
직접사용 |
일반분석 | 시간 | 16,000 | ||||
| 추가분석(필름) | 시간 | 7,000 | |||||
| 추가분석(침투) | 시간 | 6,000 | |||||
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열전도율 분석기 Thermal conductivity analyzers(Discovery Xenon Flash) |
분석의뢰 |
열전도도 측정 | 시료 | 32,000 | 14,000 | 측정가능온도 : ~400℃ | |
| 열확산도 측정 | 시료 | 30,000 | 12,000 | ||||
| 승온 실험 | 추가온도 | 13,000 | 7,000 | ||||
| 밀도 측정 | 시료 | 12,000 | 4,000 | ||||
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열중량분석기 TGA550 |
분석의뢰 |
측정 | 시간 | 37,000 | 18,000 | 손상시 배상 | |
| 샘플팬 사용 | 시료 | 10,000 | 10,000 | ||||
| Pan 교체 | 개 | 150,000 | 150,000 | ||||
| Hang down wire 교체 | 개 | 300,000 | 300,000 | ||||
|
직접사용 |
측정 | 시간 | 10,000 | ||||
| 샘플팬 사용 | 시료 | 10,000 | |||||
| Pan 교체 | 개 | 150,000 | |||||
| Hang down wire 교체 | 개 | 300,000 | |||||
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와이어방전가공기 Wire cut Machine |
분석의뢰 |
- | 시간 | 30,000 | 15,000 | ||
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직접사용 |
- | 시간 | 8,000 | ||||
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유도결합플라즈마분광계(신규) ICP-OES_NEW |
분석의뢰 |
일반분석 | 시료 | 20,000 | 12,000 |
일반분석: 기본3개 원소, 원소 추가시 +3000원/원소 원소추가: 시료당 1개 원소 추가 비용 Hydride: 수은 등 미량원소 분석 |
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| 희석 | 시료 | 2,000 | 2,000 | ||||
| 원소추가 | 시료 | 3,000 | 3,000 | ||||
| Hydride | 회 | 5,000 | 5,000 | ||||
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유도결합플라즈마질량분석기 ICP-MS |
분석의뢰 |
일반분석 | 시료 | 26,000 | 15,000 |
일반분석: 기본 3개 원소, 원소 추가시 +3000원/원소 원소추가: 시료당 1개 원소 추가 비용 |
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| 희석 | 시료 | 2,000 | 2,000 | ||||
| 산분해 | 시료 | 40,000 | 25,000 | ||||
| 원소추가 | 원소 | 3,000 | 3,000 | ||||
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유도결합플라즈마질량분석기 ICP-MS_NEW |
분석의뢰 |
일반분석 | 시료 | 30,000 | 18,000 |
일반분석: 기본 3개 원소, 원소 추가시 +3000원/원소 원소추가: 시료당 1개 원소 추가 비용 |
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| 희석 | 시료 | 2,000 | 2,000 | ||||
| 원소추가 | 원소 | 3,500 | 3,500 | ||||
| 산분해 | 시료 | 45,000 | 30,000 | ||||
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이온밀링기(CP) Ion Milling System(CP) |
분석의뢰 |
기본가공 | 시료 | 120,000 | 70,000 | 측정: 교내 직접 사용시, 재료(shield plate) 요금 별도 부과 | |
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직접사용 |
기본가공 | 시료 | 40,000 | ||||
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이온빔연마기(5000) Ion Milling System(5000) |
분석의뢰 |
기본가공 | 시간 | 100,000 | 80,000 | ||
| 냉각가공 | 시간 | 120,000 | 100,000 | ||||
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입도분석기 Matersizer 3000 PSA (Particle Size Analyzer) Mastersizer 3000 |
분석의뢰 |
입도 | 시간 | 31,000 | 16,000 |
입도: 증류수 이외 용매 재료비 별도 산정 ex) 에탄올 5,000원/L |
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| 에탄올 | 리터 | 5,000 | 5,000 | ||||
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직접사용 |
입도 | 시간 | 10,000 | ||||
| 에탄올 | 리터 | 5,000 | |||||
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입도분포ㆍ제타전위측정기 Ⅱ zeta-potential-Particle Size Analyzer Ⅱ |
분석의뢰 |
입도분석 | 시료 | 17,000 | 8,000 |
평판제타전위: 측정중 cell 코팅 손상시 코팅 비용 부가 될 수 있음 pH 변화: 32,000원/pH1포인트 이며, 추가 포인트 요청시 20,000원/ 포인트의 추가 금액이 발생합니다 |
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| 저농도 제타전위 | 시료 | 28,000 | 11,000 | ||||
| 고농도 제타전위 | 시료 | 54,000 | 29,000 | ||||
| 평판제타전위 | 시료 | 80,000 | 65,000 | ||||
| pH 변화 | pH1포인트 | 32,000 | 32,000 | ||||
| 평판셀코팅 | 회 | 625,000 | 625,000 | ||||
| 추가 pH 전극 조절 | pH1포인트 | 20,000 | 20,000 | ||||
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직접사용 |
입도분석 | 시료 | 5,000 | ||||
| 저농도 제타전위 | 시료 | 7,000 | |||||
| 고농도 제타전위 | 시료 | 15,000 | |||||
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자동성형기 Mounting Press |
분석의뢰 |
Ø25, Ø30 가공 | 시료 | 8,000 | 4,000 | ||
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직접사용 |
Ø25, Ø30 가공 | 시료 | 3,000 | ||||
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자동연마기 Auto Polisher |
분석의뢰 |
1um 연마액 | 시료 | 28,000 | 13,000 |
1um 연마액: 시료1개당 1시간 기준, 추가 시간당 + 10,000원(갯수무관) 0.04um 연마액: 시료당 1시간 기준, 추가 시간당 + 10,000원 기기만 사용시: 공실관 소모품 사용없이 기기만 직접사용시 적용 추가시간: 갯수 무관 |
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| 0.04um 연마액 | 시료 | 34,000 | 20,000 | ||||
| 추가시간 | 시간 | 12,000 | 12,000 | ||||
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직접사용 |
1um 연마액 | 시료 | 8,000 | ||||
| 0.04um 연마액 | 시료 | 12,000 | |||||
| 기기만 사용시 | 시간 | 6,000 | |||||
| 추가시간 | 시간 | 12,000 | |||||
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자외-가시선분광광도계_공동실험실습관 UV-VIS-NIR Spectrophotometer (UV-3600 Plus) |
분석의뢰 |
일반분석 | 5개/시간 | 21,000 | 6,000 | ||
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직접사용 |
일반분석 | 시간 | 4,000 | ||||
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적외선분광기(신규) FT-IR_Microscope |
분석의뢰 |
FT-IR | 시료 | 20,000 | 13,000 | ||
| 현미경 IR | 시료 | 24,000 | 16,000 | ||||
| Disk(펠렛) 제작 | 시료 | 10,000 | 5,000 | ||||
| Library search | 시료 | 5,000 | 5,000 | ||||
| 액상샘플제작(ZnSe) | 시료 | 19,000 | 19,000 | ||||
| 액상샘플제작(NaCl) | 시료 | 250,000 | 250,000 | ||||
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직접사용 |
FT-IR | 시료 | 8,000 | ||||
| Disk(필렛)제작 | 시료 | 4,000 | |||||
| Library search | 시료 | 5,000 | |||||
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적외선열화상카메라 시스템 IR-Thermo Camera System |
분석의뢰 |
온도변화 측정 | 시간 | 21,000 | 9,000 | ||
|
직접사용 |
온도변화 측정 | 시간 | 6,000 | ||||
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전계방사 주사전자현미경 MAIA Ⅲ FE-SEM MAIA Ⅲ |
분석의뢰 |
일반관찰 | 시간 | 59,000 | 40,000 | ||
| EDS | 30분 | 5,000 | 5,000 | ||||
| coating | 회 | 18,000 | 16,000 | ||||
|
직접사용 |
일반관찰 | 시간 | 24,000 | ||||
| EDS | 30분 | 3,000 | |||||
| coating | 회 | 10,000 | |||||
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전계방사형주사전자현미경(700HR) FE SEM(700HR) |
분석의뢰 |
일반관찰 | 시간 | 57,000 | 32,000 | ||
| EDS | 30분 | 5,000 | 5,000 | ||||
| PT coating | 회 | 18,000 | 16,000 | ||||
|
직접사용 |
일반관찰 | 시간 | 20,000 | ||||
| EDS | 30분 | 3,000 | |||||
| PT coating | 회 | 10,000 | |||||
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전계방사형주사전자현미경560 FE SEM(Gemini560) |
분석의뢰 |
일반관찰 | 시간 | 90,000 | 60,000 | EDS/EBSD : 일반관찰 비용에 각 항목 사용료 합산 청구 | |
| EDS | 30분 | 10,000 | 10,000 | ||||
| EBSD | 시간 | 50,000 | 20,000 | ||||
| Coating | 회 | 20,000 | 16,000 | ||||
|
접촉각 측정기 Contact Angle Measuring System |
분석의뢰 |
기본측정 | 시간 | 32,000 | 16,000 |
물 이외 용매 사용시 니들비용 추가, CH2I2 용매는 표면에너지 측정시 비극성 용매로 사용 |
|
| 니들사용 | 개 | 8,000 | 8,000 | ||||
| CH2I2 용매 사용 | 회 | 8,000 | 8,000 | ||||
|
정밀절단기 Cut-off Machine |
분석의뢰 |
단순 절단 | 시료(회) | 10,000 | 5,000 |
시료(회) 기준 : 한 방향 절단 톱날 손상시 부품비 별도 |
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| 정밀 절단 | 시료(회) | 12,000 | 8,000 | ||||
|
직접사용 |
단순 절단 | 시료(회) | 3,000 | ||||
| 정밀 절단 | 시료(회) | 8,000 | |||||
|
주사탐침현미경new Atomic Force Microscope |
분석의뢰 |
기본모드(NCM) | 시간 | 60,000 | 40,000 | ||
| 응용모드 | 시간 | 80,000 | 60,000 | ||||
|
직접사용 |
기본모드(NCM) | 시간 | 20,000 | ||||
| 응용모드 | 시간 | 30,000 | |||||
|
집속이온빔시스템 FIB Focused Ion Beam |
분석의뢰 |
TEM 시편 제작 | 시료 | 400,000 | 200,000 |
EDS: FESEM 사용료 포함 EBSD: FESEM 사용료 포함, TKD분석시 시편 제작비 별도 청구 |
|
| FIB | 시간 | 200,000 | 100,000 | ||||
| FE-SEM | 시간 | 80,000 | 50,000 | ||||
| EDS | 시간 | 100,000 | 70,000 | ||||
| EBSD | 시간 | 180,000 | 100,000 | ||||
| 특수그리드 | 개 | 25,000 | 25,000 | ||||
| Coating(Pt) | 회 | 20,000 | 16,000 | ||||
|
초저온초박절편기 Cryo-UltraMicrotome |
분석의뢰 |
재료-Carbon/formvar grid | 개 | 16,000 | 9,000 | ||
| Glass Knife | 30분 | 30,000 | 22,000 | ||||
| Embedding | 개 | 25,000 | 10,000 | ||||
| Diamond Knife | 30분 | 42,000 | 34,000 | ||||
| Cryo Setting | 회 | 66,000 | 51,000 | ||||
|
탁상드릴링머신1 Bench drilling machines-1 |
분석의뢰 |
- | 시간 | 16,000 | 8,000 | ||
|
직접사용 |
- | 시간 | 4,000 | ||||
|
탁상드릴링머신2 Bench drilling machines-2 |
분석의뢰 |
- | 시간 | 16,000 | 8,000 | ||
|
직접사용 |
- | 시간 | 4,000 | ||||
|
터릿밀링머신-남선2017 Turret milling machine |
분석의뢰 |
- | 시간 | 24,000 | 12,000 | ||
|
직접사용 |
- | 시간 | 6,000 | ||||
|
투과전자현미경 Transmission Electron Microscope(Normal TEM) |
분석의뢰 |
일반관찰(image 포함) | 시간 | 50,000 | 35,000 | ||
| Grid 시료제작 | 개 | 16,000 | 9,000 | ||||
|
표면처리기(고진공스퍼터) Plasma treatment systems |
분석의뢰 |
Coating(Cr) | 회 | 25,000 | 20,000 | ||
|
핵자기공명분석기 NMR |
분석의뢰 |
샘플제조 | 시료 | 15,000 | 15,000 |
샘플제조: 용매 CDCI3, D2O가능 2D(시료): 기본 2시간 3시간 초과시/Solid: 기본분석+추가시간 부과 |
|
| 1H | 시료 | 30,000 | 19,000 | ||||
| 기타 핵종 | 시료(2시간) | 40,000 | 25,000 | ||||
| 2D | 추가시간 | 24,000 | 12,000 | ||||
| 2D | 시료(2시간) | 80,000 | 48,000 | ||||
| 온도변경실험 | 시료(1시간) | 48,000 | 24,000 | ||||
| 3시간 초과시/Solid | 시간 | 30,000 | 20,000 | ||||
| 기본분석/Solid | 시간 | 60,000 | 40,000 | ||||
| 전처리/Solid | 시료 | 20,000 | 20,000 | ||||
|
직접사용 |
샘플제조 | 시료 | 9,000 | ||||
| 1H | 시료 | 11,000 | |||||
| 기타 핵종 | 시료 | 20,000 | |||||
| 2D | 추가시간 | 10,000 | |||||
| 2D | 시료 | 30,000 | |||||
| 온도변경실험 | 시료 | 20,000 | |||||
|
CHNSO 원소분석기 Automatic Elemental Analyzer |
분석의뢰 |
C,H,N,S | 시료 | 50,000 | 30,000 | ||
| O | 시료 | 40,000 | 24,000 | ||||
|
CNC3차원측정기 CNC 3-D MEASURING MACHINE |
분석의뢰 |
- | 시간 | 60,000 | 30,000 | ||
|
CNC레이저가공기 CNC Laser CuttingMachine |
분석의뢰 |
- | 시간 | 60,000 | 30,000 | ||
|
CNC선반 CNC Lathe |
|
||||||
|
X선 광전자 분광기 X-ray photoelectron spectrometer (XPS) |
분석의뢰 |
기본분석 (시료/ 원소 5개) | 시료(원소5개) | 96,000 | 52,000 |
기본분석 (시료/ 원소 5개): 측정 시간 기준 2시간 Depth profile (기본2시간/원소3개): 시료당 기본 2시간, 원소 3개 기준 UPS 분석 |
|
| Depth profile (기본2시간/원소3개) | 시료 | 192,000 | 104,000 | ||||
| 원소 추가 | 원소 | 25,000 | 12,000 | ||||
| 시간추가 | 시간 | 40,000 | 25,000 | ||||
| UPS 분석 | 시료 | 192,000 | 104,000 | ||||
|
X선 회절 분석기 (파우더, 벌크)(321) X ray Diffractometer(321) |
분석의뢰 |
일반분석 | 시간 | 55,000 | 30,000 |
일반분석: θ/2θ 추가시간(샘플 1개당 1시간 초과시 부과 ): 샘플 1개당 분석시간이 1시간이 넘을경우 추가시간 금액으로 산정 |
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| 추가시간(샘플 1개당 1시간 초과시 부과) | 시간 | 15,000 | 15,000 | ||||
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직접사용 |
일반분석 | 시간 | 18,000 | ||||
| 추가시간(샘플 1개당 1시간 초과시 부과) | 시간 | 15,000 | |||||
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X-선 회절분석기(SmartLab)(319) X-ray Diffractometer (XRD, SmartLab,319) |
분석의뢰 |
일반 분석 | 시간 | 55,000 | 30,000 |
일반 분석: θ/2θ, ω/2θ, 2θ 추가시간(샘플 1개당 1시간 초과시 부과): 샘플 1개당 분석시간이 1시간이 넘을경우 추가시간 금액으로 산정 (Rietveld Method, XRR, HRXRD, SAXS 사용등) |
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| 추가시간(샘플 1개당 1시간 초과시 부과) | 시간 | 15,000 | 15,000 |
